Progrès technologiques : Procédés de dépôts par voie sèche
Créé le : 08/11/2013 - Mis à jour le : 23/12/2013

Cette note de veille du Cetim pour la profession Revêtements et Traitements de Surface analyse les progrès récents: PVD évaporation par arc cathodique, installation PVD pour de nouvelles architectures de dépôts, PVD réactif pratiquement sans arc, cinq installations HIPIMS, CVD sur inserts TiAlN à haute teneur en Al, RF PECVD, CVD DLI. De stechniques hybrides se développent: EB-PVD/CVD, HIPIMS/PCM, PCM/HIPIMS/EAC, projection-PVD, projection-CVD.

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