Note de veille mutualisée Carnot - Réseau d’Acteurs Français sur l’Atomic Layer Deposition – Dépôt de couches atomiques (RAFALD)

Créé le : 02/02/2016

Depuis une dizaine d’années, il existe un intérêt croissant pour l’Atomic Layer Deposition. Cela a démarré avec l’industrie microélectronique (matériaux dits high k pour capacités et transistors). Aujourd’hui, l’ALD est utilisé ou expérimenté en packaging, photovoltaïque, traitement des fibres et textiles, énergie (stockage, batteries au lithium…), électrochimie, bijouterie… Le premier workshop RAFALD, du 16 au 18 novembre 2015 sur les campus MINATEC et campus Est de Grenoble, a visé à fédérer la communauté française industrielle et académique, en vue d’applications en microélectronique, énergie, textile, biologie, nanotechnologie (programme).