Créé le : 23/04/2012
Les techniques HIPIMS, (HPPMS ou MPP) sont des procédés PVD dans lesquels la puissance appliquée au magnétron est sous forme pulsée, avec des cycles de travail faibles (< 10%) et à basse fréquence (<10kHz). La densité de puissance appliquée à la cible atteint plusieurs kWcm-2. La HIPIMS génère dans le plasma un grand nombre de particules chargées (électrons, ions, ions à plusieurs charges). Le taux d’ionisation élevé des atomes pulvérisés permet d’obtenir des dépôts denses, à faible rugosité. Une étude bibliographique sur la technique HIPIMS, basée sur l’analyse de 250 publications a été effectuée pour mettre en évidence les caractéristiques principales de la technique. Celle-ci présente de nouveaux paramètres pour contrôler la structure, ajuster les propriétés mécaniques et optimiser les performances des revêtements.
