Une variété de procédés permet de déposer le chrome et ses dérivés : Cr-B, Cr-B-N, nitrures de chrome CrN et Cr2N, AlCrN, (Cr1-xAlx)N. Ici sont examinés : pulvérisation magnétron assistée plasma, pulvérisation magnétron pulsée courant continu, dépôt assisté par faisceau d'ions, évaporation par arc, HIPIMS à modulation de puissance pulsée, HPPMS.