Atomic Layer Deposition (ALD). 219ième ECS 2011 Montréal

Créé le : 20/10/2011 - Mis à jour le : 05/12/2011

Le dépôt de couches atomiques permet des revêtements de l’ordre du nm. Il émerge de façon spectaculaire en microélectronique. En photovoltaïque, il va permettre des surfaces spécifiques plus grandes. Il présente des possibilités en stockage d’énergie. Il se pose encore des questions de fabrication des matériaux.